現在1人が検討中 掲載開始日:2020.04.13 終了予定日:2020.08.09

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半導体・電子・電気機器メーカー

職 種

外資系企業 学歴不問

リソグラフィ技術開発エンジニア正社員

企業名
  • 社名非公開
  • 社名非公開とは?

    推薦ポイント

    外資系半導体メーカーになります。

    • 中途入社5割以上
    • U・Iターン歓迎
    • 転勤無し
    • 英語を使う仕事
    • 完全週休二日制
    • 年間休日120日以上
    • マイカー通勤可
    • フレックス勤務
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    募集要項

    仕事内容
    リソグラフィ技術開発 、具体的には、
    1.レジスト材料選定
    2.塗布現像技術開発   
    3.露光技術開発  最適なNA、σ、露光量、Focus等の設定   
    4.リソグラフィ評価技術開発 寸法測定 重ね合わせ 断面観察  
    以上、設計ルールは20nm~1umまで幅広い技術開発を実施する
    ■設備立ち上げ、設備改善、低コスト化技術開発  
    具体的には、   
    1.中古設備選定、導入、立ち上げ   
    2.設備ハードウエア改善による、能力、特性改善、コスト低減   
    3.プロセス改善による能力改善、特性改善   
    4.低欠陥プロセス開発、設備改善   
    5.高スループット技術開発   
    6.APC、FDC、VM技術開発   
    7.低コスト化技術開発
    求める人材
    【必須(MUST)】

    次の条件の多くを満たしている社員が望ましい。
    - 応募業務に3年以上の経験を有していることが望ましい。
    - 半導体全般に対する知識、経験を有し、自らリソグラフィに必要なSPECを設定し、達成に向けて取り組める人材。
    - リソグラフィに関する基礎知識を有し、プロセス開発、プロセス改善等を自ら行える人材。
    - リソグラフィに必要な評価技術を習得していること    
    ・測長SEM、断面SEM、重ね合わせ - パーティクル欠陥検査装置、パターン欠陥検査装置などの操作技術を有し、みずから設 備、  プロセスの欠陥改善に取り組むことが出来る人材。
    -レジスト材料に関する基礎知識を有し、レジストメーカと共同で必要なレジストを開発する ことが出来る人材。
    - リソグラフィ開発に必要なTEGパターンを自ら考案、GDSを作成することが出来る人材。
    - 作成したTEGマスクを用いて、DOF,OPC,DFMなど各種評価を自ら行い、技術可否を判断できる人材。
    - 設備ハードウエアについての基礎知識を有し、自ら改善を行える人材。
    - 既存のチームと共に努力ができる人材。
    - 会社の方針を理解し、自ら成功に向けた取り組みができる人材。
    - 工場間の移動など、勤務地変更を厭わないこと。
    - チームの目標を理解し、その達成に向けて自ら目標設定・スケジュール管理を行い、その達成に向けて主体的に取り組める人材。
    - 社内外の関連部署と、口頭及び文書で効率的にコミュニケーションできる人材。
    - 自分の業務の進捗について、チームリーダー、上位エンジニアに、口頭及び文書で報告、相談できること。また、チームリーダに、問題をタイムリーに報告できること。
    - 常に会社の方針、生産計画を認識し、自分に求められる役割を正しく把握できる人材。
    - 英語でコミュニケーションできる能力(目安としてTOEIC≧700点)
    給与
    600万円~1000万円 *前職の年収を考慮させていただきます。
    勤務地
    富山県
    勤務時間
    9:00-17:45 フレックスタイム制度あり
    雇用・契約形態
    正社員

    企業情報

    設立
    非公開
    従業員数
    非公開
    資本金
    非公開
    売上高
    非公開
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    求人管理No.832
    この求人の取り扱い紹介会社
    HRC株式会社
    • 面接トレーニングに自信
    • レジュメ指導に自信
    • 経営層とのパイプに自信
    • キャリアプランニングに自信
    • 条件交渉に自信
    • 電話面談あり
    • 出張面談あり
    • 土日祝もOK

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    職種名

    リソグラフィ技術開発エンジニア

    企業名

    社名非公開

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